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EMS300R T大樣品離子濺射鍍膜儀(Large Chamber Sputter Coaters)

    適合SEM(掃描電鏡)、FE-SEM(場發(fā)射掃描電鏡)、TEM(透射電鏡)。

    EMS300R T EMS150R T相似,明顯區(qū)別是EMS300R T腔室足夠大,達(dá)到283mm,采用旋轉(zhuǎn)真空泵抽真空;此外,它配備三個(gè)獨(dú)立的濺射頭,確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀、鉑等。(注意:既能濺射不易氧化金屬,又能濺射易氧化金屬,另見EMS300T T)。

特征參數(shù):

1、 可以進(jìn)行超大樣本(直徑至203mm)的金屬鍍膜

2、 三個(gè)濺射頭確保濺射沉積質(zhì)量

3、 單靶材選擇功能,可以進(jìn)行小樣本鍍膜

4、 多種金屬靶材比如金、金/鈀、鉑等可選

5、 選擇裝配膜厚監(jiān)測(cè)儀可以精確控制膜厚

6、 全自動(dòng)觸摸屏控制,快速數(shù)字輸入,操作簡便

7、 可以儲(chǔ)存不同用戶的程序

8、 能夠記錄100個(gè)最新鍍膜細(xì)節(jié)

9、 真空自動(dòng)控制,且具有真空保持功能

10、 落入式樣品臺(tái)拆裝方便(標(biāo)配是旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái))

11、 最長60分鐘不間斷鍍膜能力

12、 符合人體工程學(xué)的整體注塑機(jī)身

13、 電氣符合CE要求

14、 三年質(zhì)保

   

  

  

    

樣品臺(tái):

    EMS300R T有多種型號(hào)的樣品臺(tái)可以選擇,用于滿足目前大部分需求。落入式設(shè)計(jì)使得不同型號(hào)的樣品臺(tái)之間更換簡便,樣品臺(tái)除了行星臺(tái)外其高度均可調(diào),旋轉(zhuǎn)速度在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)可調(diào)。

l  扁平樣品臺(tái),用于晶圓的鍍膜(152mm-203mm),標(biāo)配

l  旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),50mm,不能傾斜

l  旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái),50mm,高度可調(diào)(靶材與樣本之間的距離在30-80mm之間可調(diào)),傾斜角度在0-30度之間

l  用于撥片的旋轉(zhuǎn)臺(tái)

l  加高腔室:需要時(shí)可以得到(付費(fèi))

儀器參數(shù):

儀器外形尺寸

585mm W x 470mm D x 410mm H (total height with coating head open: 650mm)

重量

36.4kg

包裝尺寸

725mm W x 660mm D x 680mm H (44.8kg)

工作腔室

高硼硅玻璃283mm ID x 127mm H

安全保護(hù)

整體PET套筒

顯示

145mm x 320mm x 240mm TFT彩顯

使用者界面

直觀的圖形界面,觸摸鍵。記憶功能:維護(hù)提醒及最后100個(gè)鍍膜方案日志記錄

濺射靶材

標(biāo)配三個(gè)57 mm Ø x 0.1 mm金靶 (SC502-314A)

真空:

旋轉(zhuǎn)真空泵

50L/m two-stage rotary pump with oil mist filter. Order separately, 91005.

真空監(jiān)測(cè)

皮拉尼測(cè)量

極限真空度

潔凈系統(tǒng)可達(dá) 2x10-2 mbar,充氮?dú)?/font>

樣品臺(tái)

標(biāo)配晶圓樣品臺(tái),152mm-203mm,旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)

濺射

根據(jù)鍍膜厚度或內(nèi)置的計(jì)時(shí)器,濺射電流范圍在0-80mA ,最長濺射時(shí)間不超過60分鐘

其它重要信息:

需要?dú)怏w

氬氣 99.999%,氮?dú)饪蛇x(排氣時(shí)需要)

電源

90-250V 50/60Hz 1,400VA including RV3 rotary pump power. (注意電壓的選擇)

電氣標(biāo)準(zhǔn)

符合電氣CE認(rèn)證要求

訂購信息:

貨號(hào)

產(chǎn)品名稱

規(guī)格

EMS300R T

EMS300R T 大樣品離子濺射鍍膜儀Large-Chamber-Rotary-Pumped Sputter Coater, fitted with three sputtering heads to ensure even metaldeposition. Include three 57mm Ø x 0.3mm gold (Au) sputter targets. A flat rotation stage for 8”/203 mm/and 6”/152 mm wafers is fitted as standard

EACH

91005

愛德華旋轉(zhuǎn)真空泵(單獨(dú)購買)Edwards RV5 90L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter

EACH

 

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